MONITORAMENTO DA DEPOSIÇÃO DE TITÂNIO POR MAGNETRON SPUTTERING VIA ESPECTROSCOPIA DE EMISSÃO ÓPTICA IN SITU.
Filmes Finos, Magnetron Sputtering e Espectroscopia de Emissão Óptica
A técnica de revestimento superficial utilizada por magnéton sputtering é uma dais mais utilizadas pela engenharia de superfície, pois ela permite o revestimento nas mais variadas composição química que seja a superfície. Esse revestimento sofre influencia diretamente nos parâmetros que envolvem o plasma, entre eles temos as espécies ativas que são de fundamental importância nas propriedades físicas e química do revestimento.
Com o objetivo de identificar as espécies ativas do plasma, parâmetros como fluxo de gás e corrente elétrica foram alterados durante os revestimentos do filme fino de titânio em substrato de vidro. O fluxo do gás argônio seguiu uma sequência de 10; 20; 30; 40 e 50 sccm (centímetro cúbico por minuto) e para cada fluxo de gás uma varredura sequencial da corrente elétrica de 0,10; 0,20; 0,30; 0,40; 0,50 ampères também foram analisados, a sequência da corrente elétrica fixada em 0,50 A está ligado a margem de segurança da fonte elétrica de corrente continua.
Para a realização da identificação das espécies ativas do plasma, utilizamos o EEO (Espectroscopia de Emissão Óptica) USB2000 Series da OceanOptics, para isso um aparato foi desenvolvido para adaptar o EEO dentro do reator de plasma de maneira que ficasse posicionado o mais próximo possível do plasma, esse aparato é constituído de um passador para o cabo de fibra óptica, uma janela de quartzo e um shutter. As espécies que emitiram luz eram coletadas por um programa da OcenOptics nesse programa foi possível identificar as mais variadas espécies para cada parâmetro fixado dentro da sequência previamente estabelecida. Os filmes finos que revestiram os vidros foram caracterizados por um aparato dedicado a analise óptica dos filmes finos, esse aparato é constituído de um laser O feixe do laser é incidido no filme e o que é transmitido foi coletado mostrando uma relação da intensidade transmitida com espessura - tempo de deposição do filme. A caracterização foi focada na espessura do filme, pois o mesmo revelaria parâmetros que são crucias durante o processo de revestimento de filmes finos de titânio, parâmetro entre eles como pressão, fluxo, corrente, tensão, taxa de deposição e estrutura cristalina do filme.